眾所周知，Edwards在設(shè)計(jì)、和制造處于地位，其豐富的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，為用戶提供佳整體解決方案。在半導(dǎo)體，Edwards 緊隨行業(yè)發(fā)展勢(shì)頭，牢牢抓住發(fā)展機(jī)遇，如今我們半導(dǎo)體真空泵產(chǎn)品更是占據(jù)了半導(dǎo)體真空泵的半壁江山，霸主地位不容忽視。毫不夸張的說，在半導(dǎo)體制造中，我們Edwards的產(chǎn)品必不可少！今天小編就為大家介紹半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中必不可少的 iXM 系列干泵。

新產(chǎn)品Edwards iXM系列干泵致力于蝕刻和化學(xué)氣相沉積工藝，為用戶降低能耗?？赡芎芏嗖皇煜ぐ雽?dǎo)體生產(chǎn)工藝的朋友對(duì)此不太了解。其實(shí)蝕刻和化學(xué)氣相沉積工藝是半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)不可缺少的步驟。

蝕刻的基本原理是利用化學(xué)感光材料的光敏特性, 在基體金屬基片兩面均勻涂敷感光材料采用光刻方法, 將膠膜板上柵網(wǎng)產(chǎn)顯形狀地復(fù)制到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過顯影去除未感光部分的掩膜, 將裸露的金屬部分在后續(xù)的加工中與腐蝕液直接噴壓接觸而被蝕除, 終獲取所需的幾何形狀及度尺寸的產(chǎn)品蝕刻。而化學(xué)氣相沉積(CVD)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用為的用來沉積多種材料的，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡(jiǎn)單的：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。沉積氮化硅膜(Si3N4)就是一個(gè)很好的例子，它是由硅烷和氮反應(yīng)形成的。

• 真空界的新產(chǎn)品Edwards iXM系列是低能耗干泵，在關(guān)鍵半導(dǎo)體工藝上幫助用戶提高制程穩(wěn)定性并降低整體能耗。

  
  

• iXM為環(huán)保量身定制；高效的多級(jí)羅茨轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)地使能耗降低至1.4kw，與前幾代干泵相比降低了60%，減少了對(duì)環(huán)境的影響以及降低了用戶使用成本。

  
  

• 氮?dú)鈿夂熀透倪M(jìn)的散熱設(shè)計(jì)使得其耐腐蝕性比iH系列產(chǎn)品高出四倍。的粉末處理功能意味著iXM將提供大的性，延長(zhǎng)多層蝕刻和化學(xué)氣相沉積工藝中泵的使用年限，降低用戶能耗。

• 結(jié)構(gòu)緊湊，設(shè)計(jì)輕巧，極低的噪音和振動(dòng)聲，使iXM成為Edwards眾多產(chǎn)品中使用范圍廣的干泵。iXM將顛覆您對(duì)真空干泵的期望，為您帶來真正的效益，大程度減少對(duì)環(huán)境的影響，提高設(shè)備稼動(dòng)率。

• 低功率輸入僅1.4千瓦

• 比前一代干泵功率減少60%

• 節(jié)能模式幫助用戶節(jié)省用電和氮?dú)獾冗\(yùn)行成本

  
  

• 4倍于前代產(chǎn)品的抗腐蝕能力

• 的粉塵處理能力

  
  

• 靜音運(yùn)行

• 體積輕巧

低能耗泵iXM系列，專為蝕刻和化學(xué)氣相沉積流程而設(shè)計(jì)。它功率強(qiáng)，體積小，低噪音低。它具有高效電機(jī)和低損耗設(shè)計(jì)可提供極低的能耗，改進(jìn)的氮?dú)獯祾咴O(shè)計(jì)以及更加寬的溫度設(shè)定范圍延長(zhǎng)泵在腐蝕環(huán)境下的使用壽命。獨(dú)有的轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)和更高的馬達(dá)扭矩帶來的粉塵處理能力，這些都成就了iXM系列在半導(dǎo)體真空泵界霸主地位。目前iXM 有型號(hào)：iXM200，iXM600，iXM1200 以及iXM1800。iXM就是未來，未來就是現(xiàn)在！后小編就為您奉上視頻，帶您一堵iXM的芳容。若對(duì)iXM 系列低能耗干泵感興趣或有任何問題，歡迎聯(lián)系我們。