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Edwards STPA2203C 是為半導體應用而設計的渦輪分子泵。它使用的轉子，可實現的性能，大的制程靈活性。全新的半機架控制器能夠節(jié)省更多空間，而且采用直流驅動，無需電池即可運行。STPA2203C 已經由半導體和磁介質行業(yè)的大型刻蝕、離子注入和沉積設備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉子設計
更高的氣體吞吐量
大的制程靈活性
5 軸磁懸浮系統
無污染
少維護
防腐蝕
可用于嚴苛制程
使用壽命延長
緊湊型設計
占地面積小
半機架控制器
的控制器設計
自動調整
自行診斷功能
直流電機驅動
無電池運行
數據
入口法蘭
ISO250F
KF40
吹掃口
KF10
水冷卻接頭
PT1/4
抽速
N2
2200 ls-1
H2
1700 ls-1
壓縮比
N2
>108
H2
>2.5 x 104
極限壓力
10-6 Pa
(10-8 Torr)
允許的大前級壓力
400 Pa
(3 Torr)
大氮氣吞吐量
1500 sccm
額定速度
27000 rpm
啟動時間
7 分鐘
固定位置
任意
水冷卻流量
2 lmin-1
水冷卻溫度
5-25 °C
壓力
0.3 MPa
的吹掃氣體流量
20 sccm
輸入電壓
200 至 240 (± 10) V 交流
功耗
1.5 kVA
泵重量
61 kg
控制器重量
12 kg
